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勻膠機(jī)是在速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。

主要用于晶片涂光刻膠，有自動(dòng)、手動(dòng)和半自動(dòng)三種作方式。

送片盒中的晶片，自動(dòng)送到承片臺(tái)上，用真空吸附，在主軸電機(jī)的帶動(dòng)下旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速100-9900轉(zhuǎn)/分(±10轉(zhuǎn)/分)，起動(dòng)加速度可調(diào)。每道程序的持續(xù)時(shí)間，轉(zhuǎn)速、加速度、烘烤溫度、烘烤時(shí)間、預(yù)烘時(shí)間等藝參數(shù)均可通過編程控制。

勻膠機(jī)有個(gè)或多個(gè)滴膠系統(tǒng)，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉(zhuǎn)滴膠。隨著晶片尺寸的增大，出現(xiàn)了多點(diǎn)滴膠或膠口移動(dòng)式滴膠。膠膜厚度般在500-1000nm，同晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種，并有流量計(jì)行恒量控制。對(duì)涂過膠的晶片有上下刮邊能，去掉晶片正反面多余的光刻膠。

烘烤位，有隧道式遠(yuǎn)紅外加熱，微波快速加熱以及電阻加熱的熱板爐等。涂膠后的晶片要按定的升溫速率行烘干。烘烤過程在密封的爐子中行，通過抽真空排除揮發(fā)出來(lái)的有害物質(zhì)。前烘結(jié)束后，將晶片送入收片盒內(nèi)。

主軸轉(zhuǎn)速的穩(wěn)定性和重復(fù)性是決定膠膜厚度均勻性和致性的關(guān)鍵，起動(dòng)加速度的大小是決定是否能將不同粘稠度的光刻膠甩開并使膠均勻的決定因素。

從其原理來(lái)說(shuō)，可以看出選購(gòu)勻膠機(jī)需要注意的幾個(gè)細(xì)節(jié)

旋轉(zhuǎn)速度

轉(zhuǎn)速的快慢和控制直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果轉(zhuǎn)速和電機(jī)的實(shí)際轉(zhuǎn)速誤差很大，對(duì)于要求涂覆的人員來(lái)說(shuō)是無(wú)法獲得準(zhǔn)確的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的。

真空吸附系統(tǒng)

真空泵要無(wú)油的，因?yàn)橛臀鄱伎赡芏氯婵展艿?，如果真空吸附力降低，?huì)導(dǎo)致基片吸附不住而產(chǎn)生"飛片"的情況，還會(huì)讓滴膠液真空管道系統(tǒng)堵塞。